在当前国际大局势下，半导体产业的光刻机成了网友们的讨论焦点，国产光刻机的进度为广为大家关注。

不少网友认为我们在这个领域的技术太弱了，但个人认为这种看法并不全面。现代光刻机是全球产业化的结果，对技术的要求难度也很大，不要说我们才改开40年，即便是美国按照现有的实力，如果以正常的市场竞争和工业体系，也无法独立制造出纯国产光刻机。

为什么呢?我们一起来看看!

1、光刻机是系统工程，靠的是全球产业链制造：当前ASML能制造光刻机靠的是全球化的产业链，整台机器10万有余的零配件近9成靠的是全球进口，在这其中包括了美国的光源，德国的物镜，瑞典的轴承，法国的阀件，日本的光学器材，以及荷兰ASML自己拥有的核心技术，如EUV光刻技术等等。

在整个光刻机产业链中，美国的制造业在这个庞大的体系中只占有极少一部分。所以，如果美国想要制造纯国产光刻机，那他需要自己解决整台机器所需的10余万的零配件，这也意味着美国需要进行极大的投资建设，攻克各种核心技术。

2、美国不是万能的，解决不了所有技术难题：如果美国真想制造纯国产的光刻机，那以美国现有的科技实力，即便举国之力之下也很难在短期做出纯美国产的光刻机。我们先拿核心子系统相关的技术来说：

EUV光刻技术：这方面的主要专利都集中在蔡司、ASML、以及日韩(三星、海力士、尼康、佳能)等国家，这些地区的厂商占据了专利榜的前6名，美国根本就排不上号。如果美国不是巧取豪夺，或者ASML、蔡司等主动贡献，美国几乎没有可能在短期内研发出来。

双工件台：目前全球只有两个国家能制造，荷兰ASML率先研发出的这个设备，第二个就是我们中国的清华团队研发(下图)。美国想要搞出这个子系统显然需要不短的时间来进行攻关。

整台光刻机涉及的核心子系统很多，以上还只是两个方面而已，美国不具备的技术都需要重头开始研发，因此都不具备短期实现能力。

3、美国去工业化已久，再造工业化系统很难：这里不得不提美国自身的去工业化，现在的美国是个金融大国，钱全跑华尔街去了。当然，美国现在的工业依旧很强(尤其是高端领域)，也还有完整的体系，但是长久的去工业化已经对美国造成了难以挽回的局面。

现阶段之下美国已经很难招到大量的产业工人，同时资本家也不是慈善家，想要工厂开工生产还得保证有足够高的利润。这些在美国都已经很难实现，人工成本高，高素质的技术工人极度缺乏。

想要让美国工业恢复往日辉煌，就得重新培养合格的技工、工程师，以及对应的教育资源。但很可惜，如今的美国都已经不具备这种条件，既没有师资力量，也没人乐意学。

这也是懂王一再喊要重振美国制造业但又没任何实际进展和成果的原因!

4、制造纯国产光刻机，中国多半比美国强：虽然现在在半导体产业中国落后，很多制造业的装备也都是国外产的较好，国产的性能较弱。但在光刻机这块，如果比纯国产，个人还是倾向于中国比美国强。

这主要是因为中国的工业化优势依旧存在，种类齐全，产业技术工人庞大，其次是光刻机的核心子系统我们都已经完成自研，光刻机技术、物镜系统、双工件台、浸液系统、准分子激光光源等等我们都搞定了，全球范围内基本都能进前三。

最后就是我们好歹有量产光刻机，而且28nm节点光刻机也将实现(意味着能超越日系厂商，进入全球第二)，比美国从零起步还是要强不少。

Lscssh科技官观点：综合而言，美国想要靠正常的技术发展和市场环境是根本不可能打造纯国产光刻机的。当然，如果他充分利用自己的霸主地位，同时依靠全球产业链，那还是能很快制造出光刻机，毕竟大量核心技术都在盟友手中，直接采购使用就行。

关键词： 高端 光刻机 系统